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C系列氣相沉積爐

產(chǎn)品簡介

熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式,無論是單晶,多晶,無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-01-17
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:7649
詳細(xì)介紹在線留言
品牌HAOYUE/皓越升溫速度(達(dá)到最高溫)1~10℃//min
內(nèi)部尺寸Φ1400x2000mm加熱方式石墨電阻
最大功率360kW控溫精度±1℃
最高溫度1600℃價格區(qū)間面議
儀器種類真空爐產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,地礦,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬

氣相沉積爐簡介

   熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式,無論是單晶,多晶,無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度,從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護(hù)層或功能層,以及厚度達(dá)100微米的單片部件,甚至高達(dá)數(shù)毫米。

熱誘導(dǎo)的化學(xué)氣相滲透(英語:chemical vaporinfiltration ,CVI)是一個與CVD有關(guān)的技術(shù),以在基體材料滲入多孔或纖維預(yù)成型件以制備由復(fù)合材料制成的部件具有改善的機械性能,耐腐蝕性,耐熱沖擊性和低殘余應(yīng)力。
技術(shù)特點:

  1. 采用立式、底/頂開門結(jié)構(gòu):裝、卸料精度高,操作方便;

  2. 采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動范圍小

  3. 溫度均勻性好:平均溫度均勻性為±5℃;

  4. 采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;

  5. 全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

  6. 安全性能好:采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制,安全可靠;

  7. 對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;

  8. 多級高效尾氣處理系統(tǒng),環(huán)境友好,能高效收集焦油及副產(chǎn)物,易清理;

  9. 采用設(shè)計防腐蝕真空機組,持續(xù)工作時間長,維修率極低。

設(shè)備規(guī)格:

產(chǎn)品

產(chǎn)品型號

有效區(qū)尺寸(mm

冷態(tài)極限真空度(Pa)

最高工作溫度()

適用工藝

C4VGR16

VVCgr-56/60-1600

Φ560x600

1

1600

CVD/CVI

C6VGR16

VVCgr-84/90-1600

Φ840x900

1

1600

CVD/CVI

C8VGR16

VVCgr-110/120-1600

Φ1100x1200

1

1600

CVD/CVI

C10VGR16

VVCgr-140/200-1600

Φ1400x2000

1

1600

CVD/CVI

 

 

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